博士論文
書影書影

分子線エピタキシャル法による化合物半導体薄膜の成長過程 : InSb薄膜のヘテロ、ホモ-エピタキシャル成長

博士論文を表すアイコン
表紙は所蔵館によって異なることがあります ヘルプページへのリンク

分子線エピタキシャル法による化合物半導体薄膜の成長過程 : InSb薄膜のヘテロ、ホモ-エピタキシャル成長

国立国会図書館請求記号
UT51-63-F4
国立国会図書館書誌ID
000000199561
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/11605781
資料種別
博士論文
著者
矢田雅規 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
早稲田大学,工学博士
すべて見る

資料に関する注記

一般注記:

博士論文

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
ブンシセン エピタキシャルホウ ニ ヨル カゴウブツ ハンドウタイ ハクマク ノ セイチョウ カテイ : InSb ハクマク ノ ヘテロ ホモ - エピタキシャル セイチョウ
著者・編者
矢田雅規 [著]
著者標目
矢田, 雅規 ヤタ, マサノリ
授与機関名
早稲田大学
授与年月日
昭和62年10月15日
授与年月日(W3CDTF)
1987
報告番号
甲第735号
学位
工学博士