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Low energy plasma etching of GaAs using electron beam excited plasma system and its application

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Low energy plasma etching of GaAs using electron beam excited plasma system and its application

国立国会図書館請求記号
UT51-91-G367
国立国会図書館書誌ID
000000240302
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3054506
資料種別
博士論文
著者
余金中 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
大阪大学,工学博士
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目次

  • CONTENTS

    p5

  • Preface

    p1

  • Acknowledgments

    p4

  • 1. Introduction

    p1

  • 1-1. Low energy plasma etching

    p1

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
余金中 [著]
著者標目
余, 金中 ユ, ジンチュン
並列タイトル等
電子ビーム励起プラズマを用いたGaAsの低エネルギープラズマエッチングとその応用 デンシ ビーム レイキ プラズマ オ モチイタ GaAs ノ テイエネルギー プラズマ エッチング ト ソノ オウヨウ
授与機関名
大阪大学
授与年月日
平成3年3月14日
授与年月日(W3CDTF)
1991
報告番号
乙第5391号
学位
工学博士