Formation and characterization of nitride films (TiN, ZrN) deposited by reactively RF sputtering
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
Contents
I.General Introduction
p1
II.Internal Stress in Reactively Bias-Sputtered TiN Films
p6
2.1.Introduction
p6
2.2.Experimental
p6
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトル
- 著者・編者
- 金平 [著]
- 著者標目
- 金, 平 チン, ピン
- 並列タイトル等
- RF反応性スパッタ法による窒化物膜(TiN,ZrN)の形成とキャラクタリゼーション RF ハンノウセイ スパッタホウ ニ ヨル チッカブツマク (TiN , ZrN) ノ ケイセイ ト キャラクタリゼーション
- 授与機関名
- 名古屋工業大学
- 授与年月日
- 平成4年3月23日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1992
- 報告番号
- 甲第85号
- 学位
- 工学博士