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光CVD五酸化タンタル薄膜の堆積とリーク電流低減の機構に関する研究

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光CVD五酸化タンタル薄膜の堆積とリーク電流低減の機構に関する研究

国立国会図書館請求記号
UT51-92-K432
国立国会図書館書誌ID
000000251183
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3061516
資料種別
博士論文
著者
谷本智 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
東京農工大学,工学博士
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目次

  • 【第1章 序論】

    p1

  • 1.1 本研究の歴史的背景

    p1

  • 1.2 低リーク電流酸化タンタル膜の実現

    p5

  • 1.3 本研究のあらましと意義

    p8

  • 【第2章 光CVD装置の構成と操作法】

    p17

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
ヒカリ CVD ゴサンカ タンタル ハクマク ノ タイセキ ト リーク デンリュウ テイゲン ノ キコウ ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
谷本智 [著]
著者標目
谷本, 智 タニモト, サトシ
授与機関名
東京農工大学
授与年月日
平成4年3月25日
授与年月日(W3CDTF)
1992
報告番号
甲第18号
学位
工学博士