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Study of ultra-high carbon-doping in GaAs and InGaAs grown by metalorganic molecular beam epitaxy

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Study of ultra-high carbon-doping in GaAs and InGaAs grown by metalorganic molecular beam epitaxy

国立国会図書館請求記号
UT51-92-N91
国立国会図書館書誌ID
000000252703
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3062012
資料種別
博士論文
著者
山田巧 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
東京工業大学,工学博士
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目次

  • 論文目録

  • TABLE OF CONTENTS

  • PREFACE

  • Chapter1.Overview and Objective

    p1

  • Chapter2.Key Features and Principles of GaAs Metalorganic Molecular Beam Epitaxy(MOMBE)

    p5

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
山田巧 [著]
著者標目
山田, 巧 ヤマダ, タクミ
並列タイトル等
有機金属分子線エピタキシー法によるGaAs,InGaAsへの超高濃度カーボンドーピングに関する研究 ユウキ キンゾク ブンシセン エピタキシーホウ ニ ヨル GaAs , InGaAs エ ノ チョウコウノウド カーボンドーピング ニ カンスル ケンキュウ
授与機関名
東京工業大学
授与年月日
平成4年3月26日
授与年月日(W3CDTF)
1992
報告番号
甲第2455号
学位
工学博士