Studies of the SiH[x] radicals in a silane glow-discharge processing plasma using infrared diode laser absorption spectroscopy
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
CONTENTS
p1
CHAPTER1.INTRODUCTION
p1
1.1 Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
p1
1.2 Problems in the Previous SiHx(x=0～3)Studies
p3
1.3 Infrared Diode Laser Absorption Spectroscopy
p8
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 板橋直志 [著]
- 著者標目
- 板橋, 直志 イタバシ, ナオシ
- 並列タイトル等
- 赤外半導体レーザー吸収分光法を用いたシラングロー放電プロセッシングプラズマ中のSiH[x]ラジカルに関する研究 セキガイ ハンドウタイ レーザー キュウシュウ ブンコウホウ オ モチイタ シラン グロー ホウデン プロセッシング プラズマチュウ ノ SiHx ラジカル ニ カンスル ケンキュウ
- 授与機関名
- 名古屋大学
- 授与年月日
- 平成4年3月25日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1992
- 報告番号
- 甲第2608号
- 学位
- 工学博士