博士論文
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Single crystal growth of silicon carbide by gas source molecular beam epitaxy

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Single crystal growth of silicon carbide by gas source molecular beam epitaxy

国立国会図書館請求記号
UT51-92-S439
国立国会図書館書誌ID
000000255020
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3063647
資料種別
博士論文
著者
吉信達夫 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
京都大学,工学博士
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目次

  • 論文目録

  • Contents

    p5

  • Abstract

    p1

  • Acknowledgments

    p3

  • Contents

    p5

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
吉信達夫 [著]
著者標目
吉信, 達夫 ヨシノブ, タツオ
並列タイトル等
ガスソース分子線エピタキシー法によるシリコンカーバイドの単結晶成長 ガス ソース ブンシセン エピタキシーホウ ニ ヨル シリコン カーバイド ノ タンケッショウ セイチョウ
授与機関名
京都大学
授与年月日
平成4年9月24日
授与年月日(W3CDTF)
1992
報告番号
甲第5198号
学位
工学博士