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Ge/Si・ヘテロエピタキシャル成長機構の研究

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Ge/Si・ヘテロエピタキシャル成長機構の研究

国立国会図書館請求記号
UT51-93-J97
国立国会図書館書誌ID
000000260071
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3067198
資料種別
博士論文
著者
大島直樹 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
名古屋大学,博士 (工学)
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目次

  • 目次

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 はじめに

    p1

  • 1.2 本研究の概要

    p3

  • 1.3 参考文献

    p5

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
Ge/Si ヘテロエピタキシャル セイチョウ キコウ ノ ケンキュウ
著者・編者
大島直樹 [著]
著者標目
大島, 直樹 オオシマ, ナオキ
授与機関名
名古屋大学
授与年月日
平成5年3月25日
授与年月日(W3CDTF)
1993
報告番号
甲第2772号
学位
博士 (工学)