Study of heavily phosphorus-doped Si epitaxial films grown by photo and plasma chemical vapor deposition
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
論文目録
TABLE OF CONTENTS
Preface
Chapter 1.Overview and Objective of This Research
p1
Chapter 2.Fundamentals of Heavily Doped Silicon
p6
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 賈瑛 [著]
- 著者標目
- 賈, 瑛 チア, イン
- 並列タイトル等
- 光及びプラズマCVD法による高濃度PドープSiエピタキシャル膜に関する研究 ヒカリ オヨビ プラズマ CVDホウ ニ ヨル コウノウド P ドープ Si エピタキシャルマク ニ カンスル ケンキュウ
- 授与機関名
- 東京工業大学
- 授与年月日
- 平成5年3月26日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1993
- 報告番号
- 甲第2603号
- 学位
- 博士 (工学)