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Electrical properties of metal-oxide-semiconductor field-effect-transistors made in ultrathin-film silicon-on-insulators

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Electrical properties of metal-oxide-semiconductor field-effect-transistors made in ultrathin-film silicon-on-insulators

国立国会図書館請求記号
UT51-93-P76
国立国会図書館書誌ID
000000262184
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3069089
資料種別
博士論文
著者
吉見信 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
東京大学,博士 (工学)
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目次

  • Table of Contents

    p7

  • Chapter1 Introduction

    p1

  • Chapter2 Simulation and analysis of the fundamental properties of ultrathin-film SOI MOSFETs

    p7

  • 2.1 Simulated device structure

    p7

  • 2.2 Subthreshold characteristic

    p9

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
吉見信 [著]
著者標目
吉見, 信 ヨシミ, マコト
並列タイトル等
絶縁膜上のシリコンに形成したMOSトランジスタの電気特性 ゼツエンマクジョウ ノ シリコン ニ ケイセイシタ MOS トランジスタ ノ デンキ トクセイ
授与機関名
東京大学
授与年月日
平成3年5月30日
授与年月日(W3CDTF)
1991
報告番号
乙第10226号
学位
博士 (工学)