Studies on gas phase kinetics of the SiHx radicals in an RF SiH[4] plasma
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
Contents
p1
1 Introduction
p1
1.1 Hydrogenated Amorphous Silicon Thin Film
p1
1.2 RF SiII₄ Plasma for a-Si:H Film Formation
p2
1.3 Purpose and Composition of This Thesis
p7
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 野村秀次 [著]
- 著者標目
- 野村, 秀次 ノムラ, ヒデシ
- 並列タイトル等
- 高周波放電シランプラズマ中のSiHxラジカルの気相反応過程に関する研究 コウシュウハ ホウデン シラン プラズマチュウ ノ SiHx ラジカル ノ キソウ ハンノウ カテイ ニ カンスル ケンキュウ
- 授与機関名
- 名古屋大学
- 授与年月日
- 平成8年3月25日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1996
- 報告番号
- 甲第3395号
- 学位
- 博士 (工学)