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Studies on CF[x] (x=1-3) radicals in RF fluorocarbon etching plasmas

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Studies on CF[x] (x=1-3) radicals in RF fluorocarbon etching plasmas

国立国会図書館請求記号
UT51-96-G441
国立国会図書館書誌ID
000000296146
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3111176
資料種別
博士論文
著者
丸山幸児 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
名古屋大学,博士 (工学)
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一般注記：

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目次

  • Table of Contents

    p1

  • CHAPTER1.INTRODUCTION

    p1

  • 1.1 Plasma Etching in Semiconductor Device Fabrications

    p1

  • 1.2 Problems in Previous Improvement of Plasma Etching

    p3

  • 1.3 Purpose and Composition of This Thesis

    p7

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書誌情報

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紙 デジタル

資料種別
博士論文
タイトル
Studies on CF[x] (x=1-3) radicals in RF fluorocarbon etching plasmas
著者・編者
丸山幸児 [著]
著者標目
丸山, 幸児 マルヤマ, コウジ
並列タイトル等
RFフルオロカーボンエッチングプラズマ中のCF[x](x=1-3)ラジカルに関する研究 RF フルオロカーボン エッチング プラズマチュウ ノ CFx (x = 1 - 3) ラジカル ニ カンスル ケンキュウ
授与機関名
名古屋大学
授与年月日
平成8年3月25日
授与年月日（W3CDTF）
1996
報告番号
甲第3454号
学位
博士 (工学)