博士論文
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半導体製造工程における絶縁膜の劣化に関する研究

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半導体製造工程における絶縁膜の劣化に関する研究

国立国会図書館請求記号
UT51-96-G532
国立国会図書館書誌ID
000000296237
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3111255
資料種別
博士論文
著者
武藤浩隆 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
名古屋大学,博士 (工学)
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目次

  • 目次

    p1

  • 第1章 本研究の背景と目的

    p1

  • 1.1 はじめに

    p1

  • 1.2 半導体製造工程の歴史的変遷とその課題

    p2

  • 1.3 半導体製造工程中の酸化膜の劣化要因

    p4

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
ハンドウタイ セイゾウ コウテイ ニ オケル ゼツエンマク ノ レッカ ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
武藤浩隆 [著]
著者標目
武藤, 浩隆 ムトウ, ヒロタカ
授与機関名
名古屋大学
授与年月日
平成8年3月1日
授与年月日(W3CDTF)
1996
報告番号
乙第4951号
学位
博士 (工学)