分子線エピタキシ法を用いた化合物半導体ヘテロ成長機構と格子歪緩和
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
第1章 序論
p1
1.1 はじめに
p1
1.2 量子構造
p1
1.3 ヘテロ成長技術
p2
1.4 格子歪緩和モデル
p4
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- ブンシセン エピタキシホウ オ モチイタ カゴウブツ ハンドウタイ ヘテロ セイチョウ キコウ ト コウシヒズミ カンワ
- 著者・編者
- 吉川昌宏 [著]
- 著者標目
- 吉川, 昌宏 ヨシカワ, マサヒロ
- 授与機関名
- 静岡大学
- 授与年月日
- 平成8年3月23日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1996
- 報告番号
- 甲第127号
- 学位
- 博士 (工学)