気相ドーピング法によるシリコン超浅拡散層形成技術とその応用に関する研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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1.緒言
p1
1.1 背景
p1
1.2 浅接合形成技術の研究動向
p4
1.3 従来の接合形成技術の問題点
p8
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- キソウ ドーピングホウ ニ ヨル シリコン チョウセン カクサンソウ ケイセイ ギジュツ ト ソノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 清田幸弘 [著]
- 著者標目
- 清田, 幸弘 キヨタ, ユキヒロ
- 授与機関名
- 早稲田大学
- 授与年月日
- 平成8年3月7日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1996
- 報告番号
- 乙第1182号
- 学位
- 博士 (工学)