低エネルギー酸素イオン注入法を用いた単結晶Si-SiO[2]積層構造の作製と応用
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
1.序論
p1
1.1 研究のねらい
p1
1.2 研究の背景
p2
1.3 研究内容
p6
2.実験方法
p9
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- テイエネルギー サンソ イオン チュウニュウホウ オ モチイタ タンケッショウ Si-SiO2 セキソウ コウゾウ ノ サクセイ ト オウヨウ
- 著者・編者
- 谷由加里 [著]
- 著者標目
- 谷, 由加里 タニ, ユカリ
- 授与機関名
- 名古屋大学
- 授与年月日
- 平成9年7月7日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1997
- 報告番号
- 乙第5255号
- 学位
- 博士 (工学)