イオン照射による酸化膜上へのCoSi2形成とその細線加工応用に関する研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p1
第1章 序論
p1
1.1 研究の背景と目的
p1
1.2 本論文の構成と要旨
p5
第2章 酸化膜上へのCoSi₂形成におけるイオン照射の効果
p8
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- イオン ショウシャ ニ ヨル サンカマクジョウ エ ノ CoSi2 ケイセイ ト ソノ サイセン カコウ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 松下篤志 [著]
- 著者標目
- 松下, 篤志 マツシタ, アツシ
- 授与機関名
- 九州大学
- 授与年月日
- 平成11年3月25日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1999
- 報告番号
- 甲第4807号
- 学位
- 博士(工学)