全反射蛍光X線分析に用いられる標準試料の作製とその高精度分析への応用に関する研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p1
第1章 TXRF法における標準試料の重要性と現状
p1
1-1.半導体分析分野における金属汚染の問題
p1
1-2. TXRF法の原理,位置づけと問題点
p3
1-3. TXRF用標準試料に求められる特性
p6
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- ゼンハンシャ ケイコウ Xセン ブンセキ ニ モチイラレル ヒョウジュン シリョウ ノ サクセイ ト ソノ コウセイド ブンセキ エ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 森良弘 [著]
- 著者標目
- 森, 良弘 モリ, ヨシヒロ
- 授与機関名
- 九州大学
- 授与年月日
- 平成11年3月25日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1999
- 報告番号
- 乙第6852号
- 学位
- 博士(工学)