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Studies on low temperature polycrystalline silicon film formation using electron cyclotron resonance silane/hydrogen plasma

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Studies on low temperature polycrystalline silicon film formation using electron cyclotron resonance silane/hydrogen plasma

国立国会図書館請求記号
UT51-99-L467
国立国会図書館書誌ID
000000337304
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3152112
資料種別
博士論文
著者
野澤陵一 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
名古屋大学,博士(工学)
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目次

  • Contents

    p1

  • Chapter1 Introduction

    p1

  • 1.1 Applications of microcrystalline silicon and polycrystalline silicon films to electronic devices

    p1

  • 1.2 Previous studies on formation techniques and formation mechanisms of microcrystalline silicon and polycrystalline silicon films

    p6

  • 1.3 Purpose and composition of this thesis

    p11

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
野澤陵一 [著]
著者標目
野澤, 陵一 ノザワ, リョウイチ
並列タイトル等
ECRシラン/水素プラズマを用いた多結晶シリコン低温形成に関する研究 ECR シラン
授与機関名
名古屋大学
授与年月日
平成11年3月25日
授与年月日(W3CDTF)
1999
報告番号
甲第4287号
学位
博士(工学)