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半導体集積回路に用いられるアルミ配線膜の実デバイスにおける信頼性要因と対策に関する研究

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半導体集積回路に用いられるアルミ配線膜の実デバイスにおける信頼性要因と対策に関する研究

国立国会図書館請求記号
UT51-99-M163
国立国会図書館書誌ID
000000337613
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3152421
資料種別
博士論文
著者
和田哲明 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
電気通信大学,博士(工学)
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目次

  • Abstract

  • 目次

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 緒言

    p1

  • 1.2 Aℓ配線の特徴と問題点

    p2

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
ハンドウタイ シュウセキ カイロ ニ モチイラレル アルミ ハイセンマク ノ ジツデバイス ニ オケル シンライセイ ヨウイン ト タイサク ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
和田哲明 [著]
著者標目
和田, 哲明 ワダ, テツアキ
授与機関名
電気通信大学
授与年月日
平成11年3月24日
授与年月日(W3CDTF)
1999
報告番号
乙第46号
学位
博士(工学)