博士論文
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ウェットプロセスによる鉄基アモルファス合金薄膜の形成とマイクロ磁気弾性デバイスへの応用

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ウェットプロセスによる鉄基アモルファス合金薄膜の形成とマイクロ磁気弾性デバイスへの応用

国立国会図書館請求記号
UT51-99-Z526
国立国会図書館書誌ID
000000347417
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3162224
資料種別
博士論文
著者
藤田直幸 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
豊橋技術科学大学,博士 (工学)
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目次

  • 論文要旨

  • 目次

    p1

  • 第1章 序論

    p1

  • §1.1 本研究の背景と目的

    p1

  • §1.2 本研究の概要と論文の構成

    p10

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
ウェットプロセス ニ ヨル テッキ アモルファス ゴウキン ハクマク ノ ケイセイ ト マイクロ ジキ ダンセイ デバイス エ ノ オウヨウ
著者・編者
藤田直幸 [著]
著者標目
藤田, 直幸 フジタ, ナオユキ
数量
授与機関名
豊橋技術科学大学
授与年月日
平成11年12月15日
授与年月日(W3CDTF)
1999
報告番号
乙第132号