Studies for below 0.25μm lithography substrate effect of chemically amplified resist and top surface imaging process
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目次
Contents
General Introduction
p1
1.Introduction
p1
2.Substrate Effect of Chemically Amplified Resist
p2
3.Top Surface Imaging Process
p3
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 森重恭 [著]
- 著者標目
- 森, 重恭 モリ, シゲヤス
- 並列タイトル等
- 0.25μm以細のリソグラフィに関する研究 化学増幅型レジストの基板依存性及び表層イメージングプロセス 0.25マイクロメートル イサイ ノ リソグラフィ ニ カンスル ケンキュウ カガク ゾウフクガタ レジスト ノ キバン イソンセイ オヨビ ヒョウソウ イメージング プロセス
- 授与機関名
- 千葉大学
- 授与年月日
- 平成12年3月14日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 2000
- 報告番号
- 乙第2110号
- 学位
- 博士 (工学)