Maskless Selective Epitaxy of 3-5 Semiconductors by Using a Low Energy Focused Ion Beam
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
論文要旨
p2
CONTENTS
p8
Chapter 1.Focused ion beam technology and application
p1
1.1 Introduction
p1
1.2 Maskless selective deposition using low energy focused ion beam
p3
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- Cho Dong-hyun [著]
- 著者標目
- 曹, 東鉉 チョウ, ドンヒョン
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2001
- 出版年（W3CDTF）
- 2001
- 数量
- 1冊
- 並列タイトル等
- 低エネルギー集束イオンビームを用いた3-5族化合物半導体のマスクレス選択成長に関する研究 テイエネルギー シュウソク イオン ビーム オ モチイタ 3 - 5ゾク カゴウブツ ハンドウタイ ノ マスクレス センタク セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ
- 授与機関名
- 豊橋技術科学大学