A study on light scattering characteristics of CMP-induced defects on silicon oxide wafer surface for defects detection and classification

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資料種別: 博士論文
タイトル: A study on light scattering characteristics of CMP-induced defects on silicon oxide wafer surface for defects detection and classification
著者・編者: Taeho Ha [著]
著者標目: 河, 兌[ホ] ハ, テホ
出版事項: [Taeho Ha]
出版年月日等: 2002
出版年（W3CDTF）: 2002
数量: 1冊
並列タイトル等: CMP加工表面薄膜欠陥の光散乱現象の解析とその評価 CMP カコウヒョウメンハクマクケッカンノヒカリサンランゲンショウノカイセキトソノヒョウカ
授与機関名: 大阪大学
授与年月日: 平成15年3月25日
授与年月日（W3CDTF）: 2003
報告番号: 甲第9194号
学位: 博士 (工学)
学位論文注記: 博士論文
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
著者別名: Ha, Taeho
NDLC: UT51
一般注記: 博士論文
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: UT51-2003-E647
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000004137406
http://id.ndl.go.jp/bib/000004137406
整理区分コード: 213