Automatic determination of the interstitial oxygen content of silicon wafers polished on both sides / Warren K. Gladden ... [et al.] (Semiconductor measurement technology) (NIST special publication ; 400-81)

Automatic determination of the interstitial oxygen content of silicon wafers polished on both sides / Warren K. Gladden ... [et al.]

(Semiconductor measurement technology) (NIST special publication ; 400-81)

国立国会図書館請求記号: YCA-C 13.10:400-81
国立国会図書館書誌ID: 000006579689

資料種別: 図書

著者: Gladden, Warren Kほか

出版者: -

出版年: 1988

資料形態: マイクロ

ページ数・大きさ等: microfiche ; 11 × 15 cm

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Distributed to depository libraries in microficheG.P.O. sales statement incorrect in publication"November 1988."...

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書誌情報

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マイクロ

資料種別: 図書
タイトル: Automatic determination of the interstitial oxygen content of silicon wafers polished on both sides / Warren K. Gladden ... [et al.]
シリーズタイトル: Semiconductor measurement technology
NIST special publication ; 400-81
著者標目: Gladden, Warren K
National Institute of Standards and Technology (U.S.)
出版年（W3CDTF）: 1988
数量: microfiche
大きさ: 11 × 15 cm
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
資料種別（注記）: [microform]
件名標目: Semiconductors -- Measurement -- Data processing
Silicon -- Spectra
Infrared spectroscopy -- Computer programs
一般注記: Distributed to depository libraries in microfiche
G.P.O. sales statement incorrect in publication
"November 1988."
Physical description for original version: iii, 66 p. : 28 cm
書誌注記: Includes bibliographical references
原資料等に関する注記: 原資料の出版事項: Gaithersburg, MD ; [Springfield, VA : U.S. Dept. of Commerce, National Institute of Standards and Technology : Order from National Technical Information Service, 1988]
SUPTDOC番号: C 13.10: 400-81
GPO管理番号: 0247 (MF)
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: YCA-C 13.10:400-81
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000006579689
http://id.ndl.go.jp/bib/000006579689
OCLC番号: 20378619
https://www.worldcat.org/oclc/20378619
整理区分コード: 281