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水素終端シリコンの初期酸化機構と極薄金属膜/極薄シリコン酸化膜界面構造の解明

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水素終端シリコンの初期酸化機構と極薄金属膜/極薄シリコン酸化膜界面構造の解明

国立国会図書館請求記号
Y151-H04452096
国立国会図書館書誌ID
000006986061
資料種別
図書
著者
服部, 健雄, 武蔵工業大学
出版者
-
出版年
1992-1993
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
スイソ シュウ タン シリコン ノ ショキ サンカ キコウ ト ゴクウス キンゾクマク/ゴクウス シリコン サンカマク カイメン コウゾウ ノ カイメイ
著者・編者
服部, 健雄, 武蔵工業大学
著者標目
服部, 健雄 ハットリ, タケオ
出版年月日等
1992-1993
出版年(W3CDTF)
1992
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(B)
件名標目
水素終端 スイソシユウタン
シリコン シリコン
初期酸化 シヨキサンカ
酸化機構 サンカキコウ
界面構造 カイメンコウゾウ
層状成長 ソウジヨウセイチヨウ
界面反応 カイメンハンノウ
酸化反応 サンカハンノウ