図書

薄膜の初期成長過程制御のためのモノレイヤー処理

図書を表すアイコン

薄膜の初期成長過程制御のためのモノレイヤー処理

国立国会図書館請求記号
Y151-H06453096
国立国会図書館書誌ID
000006996414
資料種別
図書
著者
小宮山, 宏, 東京大学
出版者
-
出版年
1994-1995
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
すべて見る

資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
図書
タイトルよみ
ハクマク ノ ショキ セイチョウ カテイ セイギョ ノ タメ ノ モノレイヤー ショリ
著者・編者
小宮山, 宏, 東京大学
著者標目
小宮山, 宏, 1944- コミヤマ, ヒロシ, 1944- ( 00215918 )典拠
出版年月日等
1994-1995
出版年(W3CDTF)
1994
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(B)
件名標目
モノレイヤー処理 モノレイヤーシヨリ
CVD CVD
ジメチルヒドラジン ジメチルヒドラジン
初期成膜 シヨキセイマク
核発生密度 カクハツセイミツド
表面被覆率 ヒヨウメンヒフクリツ
シリコン表面 シリコンヒヨウメン