博士論文

Studies on the boron diffusion in silicon using CVD-BN and its application to P-MOS integrated circuits

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Studies on the boron diffusion in silicon using CVD-BN and its application to P-MOS integrated circuits

国立国会図書館請求記号
UT51-52-F248
国立国会図書館書誌ID
000007742153
資料種別
博士論文
著者
平山誠 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
上智大学,工学博士
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博士論文

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書誌情報

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資料種別
博士論文
著者・編者
平山誠 [著]
著者標目
平山, 誠 ヒラヤマ, マコト
数量
並列タイトル等
CVD-BNを用いた珪素への硼素拡散とP-MOS集積回路への応用に関する研究 CVD-BN オ モチイタ ケイソ エ ノ ホウソ カクサン ト P-MOS シュウセキ カイロ エ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
授与機関名
上智大学
授与年月日
昭和52年3月31日
授与年月日(W3CDTF)
1977
報告番号
甲第22号