タングステン加熱触媒体により生成した水素ラジカルによるレジスト用ベースポリマー
デジタルデータあり（Japan Link Center）
すぐに読む
CiNii Research
全国の図書館の所蔵
国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。
所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください
書誌情報
この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。
- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 新井 祐渡邉 誠河野 昭彦 他
- 並列タイトル等
- Decomposition Removal of the Polymers for Resist Material by the Hydrogen Radical Generated Using Tungsten Hot-Wire Catalyzer
- タイトル（掲載誌）
- 高分子論文集 = Japanese journal of polymer science and technology
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 69(6):2012
- 掲載巻
- 69
- 掲載号
- 6
- 掲載ページ
- 266-273