博士論文

A study on atomic order flattening technology of Si wafer and its application

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A study on atomic order flattening technology of Si wafer and its application

国立国会図書館請求記号
UT51-2012-J117
国立国会図書館書誌ID
024012998
資料種別
博士論文
著者
Xiang Li [著]
出版者
[Xiang Li]
出版年
[2011]
資料形態
ページ数・大きさ等
1冊
授与大学名・学位
東北大学,博士 (工学)
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書誌情報

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資料種別
博士論文
著者・編者
Xiang Li [著]
著者標目
李, 翔 リ, ショウ
出版事項
出版年月日等
[2011]
出版年(W3CDTF)
2011
数量
1冊
並列タイトル等
原子オーダ平坦化シリコンの形成方法とその応用に関する研究 ゲンシ オーダ ヘイタンカ シリコン ノ ケイセイ ホウホウ ト ソノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
授与機関名
東北大学