Pattern Size Trimming by UV Exposure for Resist Patterns Fabricated by Thermal Nanoimprint Lithography
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- Hayato NomaHiroaki KawataMasaaki Yasuda 他
- タイトル（掲載誌）
- Journal of photopolymer science and technology
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 26(1):2013
- 掲載巻
- 26
- 掲載号
- 1
- 掲載ページ
- 109-112
- 掲載年月日（W3CDTF）
- 2013