博士論文

Studies on fabrication of silicon thin films using plasma enhanced chemical vapor deposition and behaviors of radicals

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Studies on fabrication of silicon thin films using plasma enhanced chemical vapor deposition and behaviors of radicals

国立国会図書館請求記号
UT51-2013-B788
国立国会図書館書誌ID
024664388
資料種別
博士論文
著者
Abe Yusuke [著]
出版者
[Abe Yusuke]
出版年
[2013]
資料形態
ページ数・大きさ等
1冊
授与大学名・学位
名古屋大学,博士(工学)
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書誌情報

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資料種別
博士論文
著者・編者
Abe Yusuke [著]
著者標目
阿部, 祐介 アベ, ユウスケ
出版事項
出版年月日等
[2013]
出版年(W3CDTF)
2013
数量
1冊
並列タイトル等
プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製およびラジカルの挙動に関する研究 プラズマ カガク キソウ タイセキホウ オ モチイタ シリコン ハクマク ノ サクセイ オヨビ ラジカル ノ キョドウ ニ カンスル ケンキュウ
授与機関名
名古屋大学