Study on highly selective dielectric film etching using new alternative cases and its etching mecanism for a next generation ULSI fabrication process

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資料種別: 博士論文
タイトル: Study on highly selective dielectric film etching using new alternative cases and its etching mecanism for a next generation ULSI fabrication process
著者・編者: Miyawaki Yudai [著]
著者標目: 宮脇, 雄大ミヤワキ, ユウダイ
出版事項: [Miyawaki Yudai]
出版年月日等: [2013]
出版年（W3CDTF）: 2013
数量: 1冊
並列タイトル等: 次世代ULSI製造プロセスにおける新規フルオロカーボンガスを用いた高選択絶縁膜エッチングとそのメカニズムに関する研究ジセダイ ULSI セイゾウプロセスニオケルシンキフルオロカーボンガスオモチイタコウセンタクゼツエンマクエッチングトソノメカニズムニカンスルケンキュウ
授与機関名: 名古屋大学
授与年月日: 平成25年3月25日
授与年月日（W3CDTF）: 2013
報告番号: 甲第10164号
学位: 博士(工学)
学位論文注記: 博士論文
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
NDLC: UT51
対象利用者: 一般
一般注記: 博士論文
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: UT51-2013-B792
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 024664437
http://id.ndl.go.jp/bib/024664437
整理区分コード: 213