触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み (有機エレクトロニクス)

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触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み

(有機エレクトロニクス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
024679182
資料種別
記事
著者
竹澤 和樹ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2013-06-21
資料形態
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113(98):2013.6.21
掲載ページ
p.89-94
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
竹澤 和樹
中村 友紀
小柳 貴寛 他
シリーズタイトル
並列タイトル等
ZnO film growth using high-energy H₂O generated by a catalytic reaction : Effect of low-temperature buffer layer
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
113(98):2013.6.21
掲載巻
113
掲載号
98