FTIR-ATRスペクトルによる4H-SiCと熱酸化膜の界面構造の解析 (シリコン材料・デバイス)

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FTIR-ATRスペクトルによる4H-SiCと熱酸化膜の界面構造の解析

(シリコン材料・デバイス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
024683345
資料種別
記事
著者
喜多 浩之ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2013-06-18
資料形態
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113(87):2013.6.18
掲載ページ
p.97-100
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
喜多 浩之
平井 悠久
シリーズタイトル
並列タイトル等
Study on Near-interface Structures of Thermal Oxides Grown on 4H-SiC Characterized by Infrared Spectroscopy
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
113(87):2013.6.18
掲載巻
113
掲載号
87