酸化ガリウム(Ga₂...

酸化ガリウム(Ga₂O₃)結晶成長およびデバイス応用 (特集 ワイドギャップ半導体・パワー素子の表面科学)

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酸化ガリウム(Ga₂O₃)結晶成長およびデバイス応用(特集 ワイドギャップ半導体・パワー素子の表面科学)

国立国会図書館請求記号
Z15-379
国立国会図書館書誌ID
025244251
資料種別
記事
著者
東脇 正高ほか
出版者
東京 : 日本表面科学会
出版年
2014-02
資料形態
掲載誌名
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 35(2):2014.2
掲載ページ
p.102-107
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
東脇 正高
佐々木 公平
並列タイトル等
Crystal Growth and Device Application of Gallium Oxide (Ga₂O₃)
タイトル(掲載誌)
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
35(2):2014.2
掲載巻
35
掲載号
2