Etching Characteristics with Ar-Cl₂ Gas Mixed Cluster Ion Beam

掲載誌名: 兵庫県立大学工学研究科イオン工学研究室論文集 = Annual report of Ion Beam Engineering Laboratory, University of Hyogo 2010年度

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資料種別: 記事
タイトル: Etching Characteristics with Ar-Cl₂ Gas Mixed Cluster Ion Beam
著者・編者: Toshio Seki
Takaaki Aoki
Jiro Matsuo
著者標目: Toshio Seki
Takaaki Aoki
Jiro Matsuo
タイトル（掲載誌）: 兵庫県立大学工学研究科イオン工学研究室論文集 = Annual report of Ion Beam Engineering Laboratory, University of Hyogo
巻号年月日等（掲載誌）: 2010年度
掲載ページ: 273-277
掲載年月日（W3CDTF）: 2010
出版事項（掲載誌）: 姫路 : 兵庫県立大学工学研究科イオン工学研究室
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
NDLC: ZP5
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z74-E130
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 026978304
http://id.ndl.go.jp/bib/026978304
整理区分コード: 632