CoPtCrSiター...

CoPtCrSiターゲットの酸素リアクティブスパッタリングによるCoPtCr–SiO₂グラニュラー薄膜の低ガス圧成膜

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CoPtCrSiターゲットの酸素リアクティブスパッタリングによるCoPtCr–SiO₂グラニュラー薄膜の低ガス圧成膜

国立国会図書館請求記号
Z16-474
国立国会図書館書誌ID
029131179
資料種別
記事
著者
佐々木 晋五ほか
出版者
東京 : 日本表面科学会 ; 2018-
出版年
2018-07
資料形態
掲載誌名
表面と真空 = Vacuum and surface science / 日本表面科学会, 日本真空学会 編 61(7):2018.7
掲載ページ
p.469-473
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
佐々木 晋五
タム キムコング
日向 慎太朗
斉藤 伸
並列タイトル等
Low–pressure Deposition of CoPtCr–SiO₂ Granular Films by Ar+O₂ Reactive Sputtering Using CoPtCrSi Target
タイトル(掲載誌)
表面と真空 = Vacuum and surface science / 日本表面科学会, 日本真空学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
61(7):2018.7
掲載巻
61
掲載号
7
掲載ページ
469-473