工業応用を志向した貧...

工業応用を志向した貧溶媒および冷却晶析における晶析速度解析 (特集 晶析プロセスを御する : 基礎から,マイクロ製造・医薬品製造まで)

記事を表すアイコン

工業応用を志向した貧溶媒および冷却晶析における晶析速度解析

(特集 晶析プロセスを御する : 基礎から,マイクロ製造・医薬品製造まで)

国立国会図書館請求記号
Z17-B81
国立国会図書館書誌ID
031203743
資料種別
記事
著者
小寺 孝憲ほか
出版者
川崎 : 分離技術会
出版年
2020
資料形態
掲載誌名
分離技術 50(6)=278:2020
掲載ページ
p.347-353
すべて見る

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

  • CiNii Research

    検索サービス
    連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
記事
著者・編者
小寺 孝憲
小針 昌則
平沢 泉
タイトル(掲載誌)
分離技術
巻号年月日等(掲載誌)
50(6)=278:2020
掲載巻
50
掲載号
6
掲載通号
278