3族窒化物/SiCヘ...

3族窒化物/SiCヘテロ界面を用いたワイドギャップ半導体デバイス (特集 新ヘテロ界面の実現に向けた半導体結晶成長技術の進展)

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3族窒化物/SiCヘテロ界面を用いたワイドギャップ半導体デバイス(特集 新ヘテロ界面の実現に向けた半導体結晶成長技術の進展)

国立国会図書館請求記号
Z15-379
国立国会図書館書誌ID
10934859
資料種別
記事
著者
須田 淳ほか
出版者
東京 : 日本表面科学会
出版年
2010-12
資料形態
掲載誌名
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 31(12) 2010.12
掲載ページ
p.651~656
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
須田 淳
三宅 裕樹
木本 恒暢
並列タイトル等
Wide-bandgap semiconductor devices using group-3 nitride/SiC heterointerface
タイトル(掲載誌)
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
31(12) 2010.12
掲載巻
31
掲載号
12