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雑誌
電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
巻号
110(404) 2011.1.28・29
記事
低温形成表示デバイス...
低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成 (電子ディスプレイ)
記事を表すアイコン
低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
(電子ディスプレイ)
国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
10970480
資料種別
記事
著者
松田 時宜ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2011-01
資料形態
紙
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 110(404) 2011.1.28・29
掲載ページ
p.87~90
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書誌情報
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書誌情報を出力
紙
資料種別
記事
タイトル
低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
著者・編者
松田 時宜
古田 守
平松 孝浩 他
シリーズタイトル
電子ディスプレイ
著者標目
松田 時宜
古田 守
平松 孝浩
並列タイトル等
Deposition of insulator films with new facing electrodes CVD for low temperature devices
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
110(404) 2011.1.28・29
掲載巻
110
掲載号
404
掲載ページ
87~90
掲載年月日(W3CDTF)
2011-01
ISSN(掲載誌)
0913-5685
ISSN-L(掲載誌)
0913-5685
出版事項(掲載誌)
東京 : 電子情報通信学会
出版地(国名コード)
JP
本文の言語コード
jpn
件名標目
薄膜トランジスタ
ゲート絶縁膜
化学気相堆積法
CVD
FT-IR
thin film transistor
gate insulator
chemical vapor deposition
NDLC
ZN33
対象利用者
一般
レポート番号(雑誌記事)
EID2010-35
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
Z16-940
連携機関・データベース
国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID(NDLBibID)
10970480
http://id.ndl.go.jp/bib/10970480
整理区分コード
632
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