高分子ブロック共重合...

高分子ブロック共重合体のDirected Self-Assemblyとリソグラフィーへの展開 (特集 半導体を極める高分子)

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高分子ブロック共重合体のDirected Self-Assemblyとリソグラフィーへの展開

(特集 半導体を極める高分子)

国立国会図書館請求記号
Z17-90
国立国会図書館書誌ID
10984172
資料種別
記事
著者
吉田 博史
出版者
東京 : 高分子学会
出版年
2011-03
資料形態
掲載誌名
高分子 = High polymers, Japan : polymers 60(3) (通号 710) 2011.3
掲載ページ
p.126~129
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
吉田 博史
著者標目
並列タイトル等
Directed Self-Assembly of Block Copolymers for Lithographic Applications
タイトル(掲載誌)
高分子 = High polymers, Japan : polymers
巻号年月日等(掲載誌)
60(3) (通号 710) 2011.3
掲載巻
60
掲載号
3