ケイ素とフッ素を含む...

ケイ素とフッ素を含む置換アセチレン高分子--酸素選択透過膜素材としての分子設計を中心に

記事を表すアイコン

ケイ素とフッ素を含む置換アセチレン高分子--酸素選択透過膜素材としての分子設計を中心に

国立国会図書館請求記号
Z17-93
国立国会図書館書誌ID
3680434
資料種別
記事
著者
青木 俊樹ほか
出版者
京都 : 高分子刊行会
出版年
1990-07
資料形態
デジタル
掲載誌名
高分子加工 / 高分子刊行会 [編] 39(7) 1990.07
掲載ページ
p.p336~344
すべて見る

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

  • CiNii Research

    検索サービス
    連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

デジタル

資料種別
記事
著者・編者
青木 俊樹
及川 栄蔵
タイトル(掲載誌)
高分子加工 / 高分子刊行会 [編]
巻号年月日等(掲載誌)
39(7) 1990.07
掲載巻
39
掲載号
7
掲載ページ
p336~344
掲載年月日(W3CDTF)
1990-07