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極薄シリコン酸化膜の新しい作製手法の開発--超高密度記録素子作製に向けた大きな一歩

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極薄シリコン酸化膜の新しい作製手法の開発--超高密度記録素子作製に向けた大きな一歩

国立国会図書館請求記号
Z16-223
国立国会図書館書誌ID
4963888
資料種別
記事
著者
黒河 明ほか
出版者
つくば : 工業技術院電子技術総合研究所
出版年
2000-01
資料形態
デジタル
掲載誌名
電総研ニュース = ETL news / 工業技術院電子技術総合研究所 編 (通号 600) 2000.01
掲載ページ
p.10~12
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
黒河 明
一村 信吾
中村 健 他
タイトル(掲載誌)
電総研ニュース = ETL news / 工業技術院電子技術総合研究所 編
巻号年月日等(掲載誌)
(通号 600) 2000.01
掲載通号
600
掲載ページ
10~12
掲載年月日(W3CDTF)
2000-01
ISSN(掲載誌)
0011-846X