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雑誌Japanese journal of applied physics Part. 1 Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号Part. 1 Part. 1 39(11)(529);2000・11
記事Simulation...

Simulation of Optical Constants Range of High-Transmittance Attenuated Phase-Shifting Masks Used in KrF Laser and ArF Laser

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CiNii Research

Simulation of Optical Constants Range of High-Transmittance Attenuated Phase-Shifting Masks Used in KrF Laser and ArF Laser

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
5576533
資料種別
記事
著者
Eunah Kimほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
2000-11
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 39(11) (通号 529) 2000.11
掲載ページ
p.6321～6328
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資料詳細

要約等：

Phase-shifting masks (PSMs) have provided us a breakthrough in the future semiconductor industry by extending lithography further to the submicrometer...

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デジタル

資料種別
記事
タイトル
Simulation of Optical Constants Range of High-Transmittance Attenuated Phase-Shifting Masks Used in KrF Laser and ArF Laser
著者・編者
Eunah Kim
Seong-yong Mooon
Yong-hoon Kim 他
著者標目
Eunah Kim
Seong-yong Mooon
Yong-hoon Kim
タイトル（掲載誌）
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等（掲載誌）
39(11) (通号 529) 2000.11
掲載巻
39
掲載号
11
掲載通号
529
掲載ページ
6321～6328