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雑誌Japanese journal of applied physics Part. 1 Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号Part. 1 Part. 1 42(9A)(582);SEPTEMBER 2003
記事Effect of ...

Effect of Slurry Surfactant on Nanotopography Impact in Chemical Mechanical Polishing

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CiNii Research

Effect of Slurry Surfactant on Nanotopography Impact in Chemical Mechanical Polishing

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
6684867
資料種別
記事
著者
Takeo Katohほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
2003-09
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 42(9A) (通号 582) 2003.9
掲載ページ
p.5430～5432
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資料詳細

要約等：

The effect of surfactant in a ceria slurry on the impact of nanotopography on post-CMP oxide thickness deviation (OTD) was investigated in a blanket w...

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デジタル

資料種別
記事
タイトル
Effect of Slurry Surfactant on Nanotopography Impact in Chemical Mechanical Polishing
著者・編者
Takeo Katoh
Sung-Jun Kim
Ungyu Paik 他
著者標目
Takeo Katoh
Sung-Jun Kim
Ungyu Paik
タイトル（掲載誌）
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等（掲載誌）
42(9A) (通号 582) 2003.9
掲載巻
42
掲載号
9A
掲載通号
582
掲載ページ
5430～5432