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HfAlOx/下地膜界面反応抑制の検討 (特集:ゲート絶縁膜/Si界面の評価)

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HfAlOx/下地膜界面反応抑制の検討(特集:ゲート絶縁膜/Si界面の評価)

国立国会図書館請求記号
Z15-379
国立国会図書館書誌ID
7353220
資料種別
記事
著者
三橋 理一郎ほか
出版者
東京 : 日本表面科学会
出版年
2005-05
資料形態
掲載誌名
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 26(5) 2005.5
掲載ページ
p.261~267
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
三橋 理一郎
堀内 淳
川原 孝明 他
タイトル(掲載誌)
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
26(5) 2005.5
掲載巻
26
掲載号
5
掲載ページ
261~267