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雑誌Japanese journal of applied physics Part. 1 Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号Part. 1 Part. 1 45(4B)(631);APRIL 2006
記事Epitaxial ...

Epitaxial Growth of Ferromagnetic Silicide Fe3Si on Si(111) Substrate (Special Issue: Solid State Devices & Materials)

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CiNii Research

Epitaxial Growth of Ferromagnetic Silicide Fe3Si on Si(111) Substrate(Special Issue: Solid State Devices & Materials)

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
7895909
資料種別
記事
著者
Taizoh Sadohほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
2006-04
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 45(4B) (通号 631) (Special Issue) 2006.4
掲載ページ
p.3598～3600
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資料詳細

要約等：

コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌（提供元: CiNii Research）

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デジタル

資料種別
記事
タイトル
Epitaxial Growth of Ferromagnetic Silicide Fe3Si on Si(111) Substrate
著者・編者
Taizoh Sadoh
Hisashi Takeuchi
Koji Ueda 他
シリーズタイトル
Special Issue: Solid State Devices & Materials
著者標目
Taizoh Sadoh
Hisashi Takeuchi
Koji Ueda
タイトル（掲載誌）
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等（掲載誌）
45(4B) (通号 631) (Special Issue) 2006.4
掲載巻
45
掲載号
4B
掲載通号
631