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雑誌Japanese journal of applied physics Part. 1 Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号Part. 1 Part. 1 45(10B)(642);OCTOBER 2006
記事Study of S...

Study of Spatial Distribution of SiH3 Radicals in Very High Frequency Plasma Using Cavity Ringdown Spectroscopy (Special Issue: Plasma Processing)

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CiNii Research

Study of Spatial Distribution of SiH3 Radicals in Very High Frequency Plasma Using Cavity Ringdown Spectroscopy(Special Issue: Plasma Processing)

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
8519964
資料種別
記事
著者
Takehiko Nagaiほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
2006-10
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 45(10B) (通号 642) (Special Issue) 2006.10
掲載ページ
p.8095～8098
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コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌（提供元: CiNii Research）

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デジタル

資料種別
記事
タイトル
Study of Spatial Distribution of SiH3 Radicals in Very High Frequency Plasma Using Cavity Ringdown Spectroscopy
著者・編者
Takehiko Nagai
Arno H. M. Smets
Michio Kondo
シリーズタイトル
Special Issue: Plasma Processing
著者標目
Takehiko Nagai
Arno H. M. Smets
Michio Kondo
タイトル（掲載誌）
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等（掲載誌）
45(10B) (通号 642) (Special Issue) 2006.10
掲載巻
45
掲載号
10B
掲載通号
642