水素雰囲気中高温アニ...

水素雰囲気中高温アニール処理によるシリコン微細構造のナノスケール制御

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水素雰囲気中高温アニール処理によるシリコン微細構造のナノスケール制御

国立国会図書館請求記号
Z15-243
国立国会図書館書誌ID
8882863
資料種別
記事
著者
清水 了典ほか
出版者
東京 : 応用物理学会
出版年
2007-07
資料形態
掲載誌名
応用物理 76(7) 2007.7
掲載ページ
p.764~770
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
清水 了典
岩崎 裕
並列タイトル等
Nanoscale-architectural control of silicon microstructures by high-temperature annealing in hydrogen ambient
タイトル(掲載誌)
応用物理
巻号年月日等(掲載誌)
76(7) 2007.7
掲載巻
76
掲載号
7
掲載ページ
764~770